Лінія вакуумного PVD-покриття безперервної відбивної плівки з магнетронним напиленням

Лінія безперервного вакуумного PVD-покриття з магнетронним розпиленням відбиваючої плівки — це вузькоспеціалізована виробнича система, яка в основному використовується для нанесення одного або кількох шарів надзвичайно тонких функціональних плівок на поверхню підкладок (таких як скло, пластик, метал, кераміка, напівпровідникова пластина тощо).

Його суть полягає у випаровуванні або іонізації матеріалу покриття різними фізичними методами в середовищі високого вакууму, а потім ущільненні його в плівку на поверхні підкладки.

Вакуумне покриття міді, срібла та інших електропровідних матеріалів на поверхні кераміки електричних компонентів і кераміки друкованих плат.

 

Він також підходить для вакуумного осадження різних шарів металевої плівки на поверхні інших пластин-заготовок (скло, акрилова дошка тощо);

Магнітне поле утримує плазму

Це основна особливість магнетронного розпилення. При застосуванні сильного магнітного поля певної форми (зазвичай у формі кільця або бігової доріжки) поблизу поверхні мішені електрони утримуються поблизу поверхні мішені, щоб зробити спіральний рух, що значно збільшує ймовірність зіткнення та іонізації електронів з атомами робочого газу (зазвичай аргону).

Висока швидкість іонізації та висока швидкість осадження

Утримання магнітного поля значно збільшує щільність плазми та швидкість іонізації, роблячи процес напилення ефективнішим.

Це означає, що при відносно низькому тиску газу та низькій напрузі/потужності розпилення можна досягти значно вищих швидкостей розпилення та осадження, ніж при звичайному розпиленні на постійному струмі.

Низькотемпературний процес

Оскільки більша частина енергії використовується для іонізації газу та розпилення атомів мішені, відносно мало тепла передається підкладці.

Хороша якість фільму

Хороша щільність, сильна адгезія, висока чистота та хороша однорідність.

Широкий діапазон адаптивності матеріалів

Хороша керованість процесом

Виробнича лінія магнетронного напилення покриттів стала однією з основних технологій для виготовлення функціональних тонких плівок (таких як оптичні плівки, провідні плівки, стійкі до зносу-тверді плівки, декоративні плівки, анти-корозійні плівки, магнітні плівки, напівпровідникові плівки тощо) у сучасній промисловості завдяки таким основним характеристикам і перевагам, як висока швидкість осадження, низька температура процесу, відмінна якість плівки (компактна, сильна адгезія), широка адаптованість матеріалу, хороша однорідність і контрольованість. Він має надзвичайно широке застосування в мікроелектроніці, дисплеях з плоскими панелями, сонячних елементах, покриттях для інструментів, автомобільних деталях, упаковці, оздобленні, оптичних пристроях та інших галузях.