Обладнання для розпилення магнетрону в основному складається з таких частин:
1. Цільовий матеріал: основна компонент обладнання для розпилення магнетрону, зазвичай виготовлену з металу, сплаву та інших матеріалів.
2. Вакуумна камера: Робоче середовище обладнання для розпилення магнетрону необхідно здійснювати в умовах високих вакуумних умов, а вакуумна камера відіграє роль підтримки вакууму.
3. Магнетронна система: Магнітне поле використовується для контролю іонного обстрілу на поверхні цільового матеріалу, щоб викликати розпилення.
4. Рамка підкладки: Використовується для підтримки матеріалу підкладки для обробки.
5. Система нагріву: У деяких випадках цільовий матеріал та субстрат необхідно нагрівати для контролю процесу розпилення.
