1. Основна структура вакуумного покриття
Вакуумна машина для покриття - це пристрій, який осаджує тонку плівку на поверхні підкладки фізичними або хімічними методами в вакуумному середовищі. Його основна структура включає такі частини:
1. Вакуумна система: вона складається з механічного насоса, молекулярного насоса, дифузійного насоса тощо, який використовується для накачування камери покриття у високо вакуумну середовище 10⁻³ ~ 10⁻⁶ ПА (див. Посібник з технології вакуумного покриття "). Наприклад, механічний насос може знизити тиск до 1 ~ 10 ПА, а молекулярний насос може ще більше зменшити його до нижче 10⁻⁴ ПА.
2. Камера покриття: Основний корпус-це порожнина з нержавіючої сталі, яка стійка до корозії і має сильну герметизацію. Розмір становить від 0,5 м³ для невеликих лабораторій до 5 м³ для промислового класу (наприклад, модель ARL-300 ULVAC).
3. Джерело випаровування: Виберіть опір нагрівання, електронний промінь або джерело розпилення магнетрона відповідно до вимог до процесу. Наприклад, потужність джерела випаровування електронів може досягати 10 кВт, а швидкість випаровування становить приблизно 1 ~ 5 нм/с.
2. Відмінності в складі різних типів покриттів машин
1. Фізичне осадження пари (PVD) обладнання:
- Машини для покриття магнетрона повинні бути оснащені цільовими матеріалами (такими як цілі титану, алюмінієві цілі) та систем магнітного поля, а тиск робочого газу зазвичай становить 0,1 ~ 10 ПА.
- Машини з дуговим покриттям додають джерела дуги, струм може досягти 100 ~ 200 А, а адгезія плівки сильніша.
2. Хімічне осадження пари (CVD) Обладнання:
- Необхідно ввести реактивні гази (наприклад, SIH₄, CH₄), а система управління потоком газу оснащена з точністю ± 1 SCCM (стандартні мілілітери/хвилину).
3. Допоміжні системи та ключові технічні параметри
1. Система управління: PLC або промисловий комп'ютер використовується для моніторингу вакууму, температури (± 1 градусів) та товщини плівки (вимірюється методом коливань кристалів кварцового кристала, точності ± 0,1 нм) в режимі реального часу.
2. Система охолодження: Проектний витрата трубопроводу охолодження води зазвичай становить 20 ~ 50 л/хв, щоб забезпечити довгострокову стабільність роботи обладнання.
Iv. Сценарії додатків та рекомендації щодо вибору
1. Оптичне покриття: вимагає високої рівномірності (± 1% відхилення товщини), і потрібно вибрати багатогранне джерело випаровування електронного променя.
2. Покриття інструментів: фокус на твердності (наприклад, покриття з оловом може досягти 2000 HV), а також є обладнання для іонного покриття дугового покриття.
Завдяки наведеному вище аналізі користувачі можуть вибрати тип та конфігурацію машини для відповідності відповідно до фактичних потреб (наприклад, продуктивність плівки, ефективність виробництва).
